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半导体制造是硅烷的高端应用领域,电子级硅烷气在其中发挥着核心作用。在集成电路制造中,化学气相沉积(CVD)是关键工艺,硅烷作为重要的反应气体参与其中。在CVD过程中,硅烷在高频交变电场作用下解离反应,沉积在硅片表面形成固体膜,这些膜可用于构建电路元件结构,如单晶膜、多晶膜、氧化硅膜、氮化硅膜等。
硅烷的纯度对半导体制造至关重要。电子级硅烷气纯度需达到5N及以上(99.999%及以上),甚至高达6N - 7N(国际先进水平)。高纯度硅烷能确保沉积的薄膜质量,减少杂质对半导体器件性能的影响,提高器件的可靠性和稳定性。随着半导体技术的不断发展,对硅烷纯度和质量的要求也越来越高,硅烷供应商需要不断提升生产工艺和质量控制水平,以满足市场需求。